Smog e stress fanno male ai neonati

Il corretto sviluppo è a rischio

Lo stress materno e l'esposizione a particelle fini nell'aria non hanno un effetto positivo sul livello di metilazione del Dna dei neonati e quindi sul loro corretto sviluppo.
A dirlo è uno studio dell'Università di Pavia e della Fondazione Mondino che ha approfondito la relazione fra stress materno prenatale causato dalla pandemia di Covid-19 e l'esposizione alle particelle fini con un diametro aerodinamico inferiore a 2,5 micrometri (Pm2.5). L'obiettivo era di scoprire l'eventuale influenza interattiva di questi fattori sulla regolazione del gene del trasportatore della serotonina (SLC6A4) e sulle implicazioni per il benessere infantile.
È così emersa la presenza di livelli più alti di metilazione del Dna in regioni specifiche del gene SLC6A4 nei neonati nati da madri che hanno accusato livelli elevati di stress legato alla pandemia prenatale e maggiore esposizione a Pm2.5 durante la gestazione. Gli effetti sono stati particolarmente evidenti quando l'esposizione a Pm2.5 elevato è avvenuta durante il secondo trimestre di gravidanza. Questo suggerisce una possibile finestra temporale sensibile per gli impatti sullo sviluppo legati allo stress e alle esposizioni ambientali.
"I nostri risultati - commenta Livio Provenzi, coordinatore del Developmental Psychobiology Lab e autore principale dello studio - sottolineano l'importanza di comprendere come i fattori ambientali, quale l'inquinamento atmosferico, interagiscano con gli eventi stressanti materni per influenzare lo sviluppo dei neonati. Questa ricerca mette in evidenza un periodo critico durante la gravidanza nel quale gli effetti combinati dello stress e dell'esposizione all'inquinamento atmosferico dovrebbero essere attenzionati".
"La scoperta che il secondo trimestre di gravidanza possa essere un momento sensibile per questi effetti ci offre un'importante prospettiva per interventi futuri", aggiunge Sarah Nazzari del Dipartimento di scienze del sistema nervoso e del comportamento di UniPv.